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保定全一阐述半导体硅片的腐蚀清洗

2021-05-19 11:15:39 保定市全一电子设备有限公司 阅读

     保定全一研发的针对半导体硅片行业的腐蚀清洗机可以实现清洗、烘干一体化功能。而且清洗工位、烘干工位可以实现自动升降功能,大大降低劳动力。

       硅片腐蚀清洗设备主要由HF腐蚀槽、溢流槽(顶部设滑动平台)、气鼓漂洗槽、风干工位、升降工位、气鼓系统、滚轮、液位计、可移动风刀、整体接水盘、排风系统、整机框架及外封板、安全门及电气控制系统等组成。

   清洗时人工将提篮放置于选中工位的待料位,操作开关使之下降至HF腐蚀槽内进行腐蚀清洗,到达设定时间后选中的升降工位上升至待料上位,人工将清洗提篮滑动至气鼓漂洗槽相对应的待料上位上,操作升降工位下降至气鼓漂洗槽进行气鼓漂洗,到达设定时间后操作升降工位上升至待料上位,人工将清洗提篮搬运至风干工位进行风干,移动风刀开启对工件表面进行吹风,风干完成后人工将清洗提篮取走即可。

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